双面光刻机相关论文
本文首先简要介绍了URE-2000S系列双面光刻机的研制背景及总体性能,然后着重介绍了URE_2000S系列双面光刻机的工作原理、系统组成......
随着半导体工业的不断发展，基片面积越来越大，这些器件在集成度、超微线宽、纵深比、对准精度等指标的要求越来越高，这对光刻机的控制......
对准精度是影响套刻精度的关键因素，对准系统作为光刻机非常关键的一部分，它与镜头、工件台并称为光刻机三大核心，对光刻机的整机性能......
针对双面光刻机运动控制需求，提出模块化的设计方案，重点分析了对准工作台PID调节方法，实现了高动态响应、高精度运动控制。......
