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反应气源相关论文

以高氢稀释硅烷为反应气源沉积硅薄膜

以高浓度比的氢稀释硅烷为反应气源，在ＰＥＣＶＤ薄膜沉积系统中利用高频等离子体中［Ｈ］基对生成膜表面弱Ｓｉ－Ｓｉ键的腐蚀作用，能有效地改善沉积硅膜中网......

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硅薄膜沉积硅烷反应气源

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