采用短波长光源，制作小于０．５μｍ线宽的ＶＬＳＩ芯片，对准精度必须是０．１μｍ甚至更小。该报告介绍掩模对准台在机械方面的改进，诸如Ｘ、Ｙ向位移精度的提高，Ｚ向......

对双面曝光技术中的对准方式、曝光光源系统、对准工作台等关键技术进行了研究，并通过多年工作实践经验，对对准工作台的精度分析作了......