近年来,高度有序的纳米结构的制备逐渐成为纳米技术应用领域的热点和难点.一般而言,特征尺寸300nm以上的结构可以通过传统光刻技术......

随着摩尔定律的不断推进,193 nm 光刻多重图案技术已达到其分辨率的极限。科研工作者以及工业界不断找寻着10 nm 以下,甚至 5 nm ......

过去二十年，超分子或者大分子自组装研究领域取得很大进展，主要集中在研究分子结构与自组装行为的关系上。超分子或者大分子自组装的......

导向自组装(Directed Self-Assembly,DSA)光刻技术是一种极具发展潜力的新型图形化工艺,已被国际器件与系统路线图(International ......

通过同步生长和导向自组装过程合成了磁性双层Ag＠C＠Co五棱柱纳米棒，其最外层Co为沿棱分布在Ag＠C纳米线上。所制得的Ag＠C＠Co纳朱棒平均直......