常压射频等离子体相关论文
常压等离子体增强化学气相沉积(AP-PECVD)薄膜的均匀性是AP-PECVD技术成功应用的关键问题之一.为此,通过基片的微位移实现了TiO2纳......
TiO2,俗称钛白粉,由于其特殊的半导体结构,在新能源、环境等领域得到了广泛的研究。本实验室采用常压射频等离子辅助化学气相沉积......
采用常压射频等离子体放电技术,以六甲基二硅氧烷（HMDSO）和Ar的混合气体为反应源,成功制备了SiOx薄膜.通过测量放电的电流-电压曲线......
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