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投影曝光法相关论文

新照明系统的高分辨率光刻

１前言目前半导体ＩＣ中的最小特征尺寸已与光刻用的光波长非常接近，根据公式Ｒ＝Ｋ１λ／ＮＡ，要使加工尺寸进一步微细化，必须使波长再缩短，或者使光学透镜......

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光刻半导体器件投影曝光法制造工艺

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