接触光刻相关论文
本文从物理光学的衍射理论出发,系统地研究了降低衍射效应的接近光刻原理,并解出降低衍射效应的光学系统的结构参数.刻线宽度2α;......
基于多线光源阵列光刻系统降低一个方向的衍射效应原理,设计出了用于光刻计量光栅的复眼棱镜非接触光刻曝光系统。此系统具有简单......
人所共知,利用多点光源可降低衍射效应.对于制作光栅,可用多线光源代替多点光源.本文描述了产生多线光源的方式,并进行了光学系统......
属微细加工技术的离子束曝光法及电子束曝光法是在真空中处理试料的,它做为平坦而厚的掩模制造方法逐步为人们所认识。把图形光刻......
在对接触式光刻工艺进行了详尽评价之后,我们断定出光致抗蚀剂粘附到掩模版表面上是产生图形缺陷的主要原因,并研究出了一种预防性......
