无显影气相光刻相关论文
无显影气相光刻是我国首先发现的一项干法腐蚀技术。通过对其机理的不断研究发现，添加在光刻胶中的添加剂促进HF气体在高温下离解得......
为使无显影气相光刻应用于非硅衬底材料的刻蚀，扩宽其应用范围，研究了无显影气相光刻在溶胶 凝胶法制备的二氧化硅膜中的应用。通过......
该文对无显影气相光刻-一种新颖的高分辨率的微电子光刻技术和在光电子领域有广泛应用前景的导电材料聚苯胺进行了系统的研究.得到......
该论文在以前研究的基础上,对无显影气相光刻用了进一步的应用研究,并且从化学角度对其中的现象和结果作出了合理的解释.无显影气......
由于无显影气相光刻（ＤＦＶＰ）具有分辨率高，针孔密度低，光刻流程短，设备简单，成本低等优点，因此将其应用于晶闸管元件的生产具有非常重要的实际意......
无显影气相光刻技术是我国在1980年发明的一种独特的光刻技术,具有不需要显影,分辨率高等优点.但它的机理并不清楚.本文介绍十多年......
