本文论述了相移掩膜（ＰＳＭ）提高光刻分辨率的基本原理、主要类型、无铬ＰＳＭ的制作方法，简述了曝光实验和实验结果。用ＮＡ＝０．２８的ｇ线光刻机得到了０．５μｍ的实际......