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晶背刻蚀相关论文
晶边硅剥落致0.18微米系统级芯片低良率的研究
随着集成电路制造工艺的不断进步,系统级芯片得到快速发展。公司在导入0.18微米系统级芯片工艺的过程中,遇到的最大问题是晶圆八点......
学位
硅剥落
良率
洗边
晶背刻蚀
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