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讨论了磁控溅射过程中电子在非均匀电磁场中的运动规律，分析了靶材非均匀溅射及磁控溅射基片温升低、溅射速率高的原因．......
从更深层次——电子在非均匀电磁场中的运动规律 ,探讨了磁控溅射的更一般原理以及磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质原因......
