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氧化层损伤恢复相关论文
超大规模集成电路快速热退火工艺的优化研究
当面对更大尺寸的硅片和更小的特征尺寸器件时,硅片上温度的微小变化,所造成的温度不均匀度,就会导致产品合格率的降低,论文提出快......
学位
快速热退火工艺
横向PNP管
温度监控
温度均匀性
氧化层损伤恢复
良率
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