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氮化铝镓器件相关论文
T形栅AlGaN/GaN HEMT器件关键工艺研究
氮化镓(GaN)是目前研究最热门的化合物半导体材料之一。GaN具有禁带宽度大、临界击穿场强高、电子饱和漂移速度快等优良特性,是制备......
学位
氮化铝镓器件
高电子迁移率晶体管
T形栅
飞秒激光
欧姆接触
干法刻蚀
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