热丝化学汽相淀积法(HFCVD) 相关硕士博士期刊学术论文

用热丝化学汽相淀积法以硅烷、甲烷、氢气为源气,在低温下沿Si(111)晶面异质生长SiC薄膜。用XRD法对生成的SiC薄膜进行分析检测。......