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硅锗外延层相关论文
超高真空CVD生长的Si1—xGex合金组分变化与表面偏析现象
系统分析了利用超高真空CVD技术在Si衬底上外延Si-xGex合金的体内组分分布情况和Ge的表面偏析现象。用SIMS对Si和Ge的组分作了深度剖析。在生长过程中,组分......
期刊
硅锗外延层
表面偏析
超高真空
组分
SIMS
CVD
SiGe epilayer
Surface segregation
Ultra high vacuum
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