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利用国产设备的多晶硅膜等离子体腐蚀技术
本文介绍利用国产DK-P290型等离子刻蚀设备完成的多晶硅膜腐蚀技术的研究。利用SF_6作腐蚀剂,可以得到腐蚀速率超过0.1微米/分的均......
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多晶硅膜
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