磁控共溅射法相关论文
采用磁控共溅射法制备了Co含量介于6．4at％~16．4at％的Co-C纳米复合薄膜。形貌观察表明，Co纳米颗粒均匀分散在C基体中，相邻Co颗粒被C基体较......
本文用磁控共溅射方法制备了无氢非晶碳化锗薄膜。用拉曼光谱(Kaman)、傅里叶变换红外透射光谱( FTIR)和X射线光电子谱(XPS)等方法......
在该课题中,作者用磁控共溅射法制备了NiFeCo/Ag颗粒膜.用卢瑟福背散射谱(RBS)方法测量样品的微结构和组元分布.用原子力显微镜(AF......
随着现代军事探测技术和通讯技术的快速发展,高频段的吸波材料受到社会各界广泛关注。首先,军事方面的探测技术,尤其是雷达的吸波......
Ni-Al薄膜是一种很有发展前景的热敏薄膜材料。本论文用双靶直流磁控共溅射法制备了Ni-Al薄膜，利用AFM、SEM-EDS、XRD、SPAT对Ni-Al......
随着信息技术的飞速发展,信息采集、贮存、处理的容量和速度要求日益提高,电子时代的重要物质基础半导体器件正在接近或已经达到其......
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采用复合靶磁控共溅射法制备了含纳米碳粒的氧化硅薄膜.测量显示,随着正向偏压的增加,来自Au/含纳米碳粒氧化硅膜/p-Si结构的电致......
