离子注入系统相关论文
The ion implantation uniformity is of vital importance for an ion implanter.In this paper,we report the,uniformity measu......
近日．应用材料公司宣布推出半导体单硅片大电流离子注入系统，即全新的Applied Varian V Ⅱ Sta Trident系统．通过嵌入“掺杂物”原子......
<正> 由于半导体行业价格下跌,其16MB DRAM价格1996年一年就下跌了80％,1997年虽未大幅下跌,但价格仍在继续下降,所以,半导体制造商......
全新的Applied Varian VⅡSta⑧900 3D系统实现无与伦比的离子束线路精度,适用于复杂FinFET和3D存储结构的掺杂工艺 独一无二的离......
