本文应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀方法制备Cr-Si-N薄膜,通过调节Si靶电流改变薄膜中的Si含量.用辉光放电光谱仪(GDOES)分析了......

用电弧离子镀方法在炮钢表面制备Ti0.5Al0.5N薄膜,Ti0.5Ah.5N薄膜在空气中800℃下恒温氧化20 h,通过XRD、SEM和EDX对薄膜表面氧化......

该工作利用高真空中磁场控制的热电子弧光放电离化Ｎ〈，２〉，获得高离化度等离子体与电子枪蒸发硼配合建立磁控弧光放电增强等离子体－活化......

该文工作开创性地建立了电子回旋增强等离子体活化反应离子镀方法,较系统地研究了制备立方氮化硼薄膜过程中各种条件对其影响,建立......