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移相曝光相关论文

高速发展的光学光刻技术

光学光刻设备日益精进,相关技术不断革新,使光学曝光技术继续主宰九十年代的光刻设备市场。新颖的光学光刻设备仍将在进入本世纪末......

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光学光刻移相曝光准分子光刻

为使移相曝光更容易实现而开发的移相器遮光方式

<正> 我公司开发了能够适用于各种图形的相位移动法,称为“移相器遮光方式”。用该法试制了设计规则为0.4μm的64M DRAM,已确认具......

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移相曝光移相器遮光方式

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