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等离子体横向刻蚀相关论文
等离子体横向刻蚀硅的特性研究
研究了用SiO2 +Al作掩模 ,SF6 +O2 混合气体等离子体对Si的横向刻蚀 ,其结果表明 ,在SF6 +O2 等离子体气氛中 ,Al是很好的保护膜 ,......
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MEMSRF/WM无源器件
SiO2+Al掩模
等离子体横向刻蚀
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