粉末靶相关论文
介绍了RF溅射冷压法制备的PZT陶瓷粉末靶和块状靶制取PZT薄膜的过程。二种方法避开了热压法制作PZT陶瓷块状靶的复杂工艺及昂贵设......
室温下,采用射频磁控溅射氧化锌(ZnO)粉末靶和铜(Cu)靶,在玻璃衬底上制备ZnO/Cu/ZnO透明导电薄膜.通过改变Cu层厚度,研究其对ZnO/C......
按铬及钼原子比1：1比例将二硼化铬及二硫化钼均匀混合的粉末作靶体.脉冲磁控溅射法在314不锈钢及硅基体上同时制备混合成份涂层.分......
采用粉末靶射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备氟掺杂二氧化锡(FTO)薄膜。结果表明:制备的样品为多晶薄膜,具有二氧化锡的四方金红石......
报道一种制备Ｖ〈，２〉Ｏ〈，５〉薄膜的新方法。采用离子束溅射（Ｉｏｎ－Ｂｅａｒｍ－ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）Ｖ〈，２〉Ｏ〈，５〉粉末靶的方法制备了氧化钒的薄膜。用ＸＰＳ对溅射出的薄膜进行测试表明，生成......
粉末靶封闭非平衡磁场脉冲磁控溅射是一种方便靶材配比、节约靶材成本的高效磁控溅射工艺,其特点是将固体粉末按成分需求配比,直接......
室温下在玻璃和聚酰亚胺两种不同衬底上,采用射频磁控溅射法溅射掺铝氧化锌(AZO)粉末靶和固体Ag靶,制备了两组AZO/Ag/AZO 3层透明......
室温下采用射频磁控溅射氧化锌(ZnO)粉末靶、银(Ag)靶,在玻璃衬底上制备ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜。首先,ZnO厚度为30nm时,改变Ag厚......
采用粉末靶射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备氟掺杂二氧化锡(FTO)薄膜。结果表明:制备的样品为多晶薄膜,具有二氧化锡的四方金红石......
用化学式量的烧结 YBa_2Cu_3O_(7-δ)粉末作磁控溅射的靶材,原位制备出 c 轴高度定向的超导薄膜.生长在 SrTiO_3和 ZrO_2衬底上的......
室温下,采用射频磁控溅射AZO粉末靶和Ag靶在玻璃基底上制备Ag层厚度分别为12 nm和15 nm两组对称结构掺铝氧化锌/银/掺铝氧化锌(AZO......
介绍了RF溅射冷压法制备的PZT陶瓷粉末靶和块状靶制取PZT薄膜的过程.二种方法避开了热压法制作PZT陶瓷块状靶的复杂工艺及昂贵设备......
