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研究了多片Fe（73.5）Cu1Nb3Si（13.5）B9纳米晶条带的磁滞回线、纵向巨磁阻抗（Longitudinal Driven Giant Magneto-Impedance,LDGMI）效应及......
采用直流电镀结合正胶光刻工艺制备了Fe21Ni79／Cu／Fe21Ni79三明冶薄膜，并在0．1-40MHz范围内研究了它的纵向巨磁阻抗效应特性。实验结果......
