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缺陷无损表征技术相关论文
4H-SiC外延材料低位错密度关键技术研究
以碳化硅(SiC)材料为代表的第三代宽带隙半导体材料具有宽带隙、高临界击穿电场、高热导率、高载流子饱和漂移速度等特点,特别适合......
学位
4H-SiC材料
位错延伸和转化机理
外延生长
BPD
SF
缺陷无损表征技术
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