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自对准晕环工艺相关论文
体硅FinFET先导工艺及电学性质研究
集成电路技术的发展方向仍旧是不断提高集成度和降低制造成本。三维鳍式场效应晶体管(FinFET)器件和平面超薄沟道与埋氧层(Ultra-T......
学位
体硅平面器件
鳍式场效应晶体管
自对准晕环工艺
穿通阻挡层工艺
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