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良率与成本控制相关论文
推进氧化制程对芯片参数均匀性的影响与改善
为保证商用芯片生产具有高效率、 高质量和可靠性, 对某型号芯片的工艺制程进行深入探究, 在关键影响因子的改进方面采取针对性措......
期刊
商用芯片
参数均匀性
推进氧化制程
可靠性
良率与成本控制
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parameter uniformity
advance oxida
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