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应用于半导体产业的硅外延材料,其制造工艺的发展迄今已将近50年。一方面,为了满足硅外延片从小尺寸向大尺寸发展以及材料均匀性要......
实验采用掺气式节水龙头,对有、无起泡器作用下分别设计三水平三因素冲击力正交实验,确定冲击力大小的主次影响因素。将静压调至0.......
