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采用磁控溅射法在Au/Si基片上制备了铌酸锌铋BZN(Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7)薄膜.在基片温度200℃、本底真空1×10-3 Pa条件下,BZN靶溅射0......
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采用磁控溅射法在Au／Si基片上制备了铌酸锌铋BZN（Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7）薄膜。在基片温度200℃、本底真空1×10^-3Pa条件下，BZN靶溅射......
