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单晶硅片的区域载荷法平坦化抛光
基于弹性力学的圆板接触理论,分析了在抛光过程中硅片与抛光垫之间的接触压强分布与被抛光硅片的平面度误差的关系,提出了使用区域......
期刊
硅片
化学机械抛光
集成平坦化
压强分布
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