用红外光谱，质子核磁共振谱对以ＳｉＨ４／ＮＨ３／Ｎ２混合气体源，用等离子体增强化学气相淀积法淀积的非晶氢化化氮化硅（ａ－ＳｉＮｘ：Ｈ）薄膜进行了分析，结果表明膜中Ｈ以Ｓｉ－Ｈ和Ｎ－Ｈ形......