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非晶硅孕育层相关论文
Cat-CVD方法制备多晶硅薄膜的孕育层控制
采用催化化学气相沉积法(Cat-CVD)制备多晶硅(p-Si)薄膜的初期会形成一层比较厚的非晶硅(a-Si)孕育层。这层孕育层作为p-Si的前驱生长物,......
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催化化学气相沉积法
多晶硅薄膜
非晶硅孕育层
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