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高功率磁控溅射技术具有膜层致密、膜基结合力好以及薄膜均匀等优点,已经得到国际镀膜大公司(如Balzers,cemecon 等)以及学术界的......
封面图片来自本期论文“高离化率电-磁场协同增强HiPIMS高速沉积特性”,是采用电-磁场协同增强HiPIMS新技术制备的钒膜AFM三维立体......
高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）作为一项极具发展前途的物理气相沉积新技术,近年来引起学术界和工业界的广泛关注.HIPIMS技术（也被称为HP......
高功率脉冲磁控溅射技术（HIPIMS）是一门新兴的高离化率磁控溅射技术。概述了HIPIMS的技术优势,包括高膜层致密度和平滑度、高膜基界......
高离化率在离子沉积领域有非常重要的意义，不但可以提高薄膜的密度和结合力等性能，还能沉积复杂工件，降低沉积温度、对沉积材料到不同......
