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高纯气体分子相关论文
投影光刻机中气相分子污染物(AMC)的控制及检测
投影光刻机的性能直接决定了集成电路的特征线宽,随着特征尺寸(CD)的不断减小和套刻精度的不断提高,AMC将会越来越严重地影响圆片的......
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