8英寸硅外延片相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

8英寸硅外延片相关论文

8英寸薄层硅外延片的均匀性控制方法

8英寸(1英寸=2.54 cm)薄层硅外延片的不均匀性是制约晶圆芯片良率水平的瓶颈之一。研究了硅外延工艺过程中影响薄外延层厚度和电阻......

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8英寸硅外延片薄层外延外延层厚度电阻率不均匀性 “碗状”分布

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作为半导体硅器件和集成电路中经常会使用的一种基础功能的材料,硅外延片的性能非常优越,是我国电子信息技术产业发展过程中经常会......

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