Fe—si化合物相关论文
采用直流磁控溅射方法，在Si（100）衬底上沉积厚约200nm纯金属Fe膜，随后在真空退火炉中不同退火条件下对样品进行热处理，形成Fe—Si化合物......
对直流磁控溅射方法制备Fe—Si化合物的工艺过程进行了研究．首先通过改变溅射气压，溅射功率和Ar气流量，在Si（100）衬底上沉积约100nm纯金......
笔者采用磁控溅射的方法，在高真空不同的溅射气压条件下，沉积金属Fe到Si（100）衬底上，然后通过真空退火炉在2h和12h条件下对两组样品进行......
