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本文采用磁控溅射+真空退火方法制备Fe3Si薄膜,探索溅射膜厚对Fe3Si薄膜制备工艺的影响,通过改变溅射膜厚和热处理工艺参数来研究......
介绍了Fe3Si的一些基本特性及Fe3Si薄膜的几种主要制备方法,重点介绍了分子束外延法中不同类型衬底、温度对Fe3Si薄膜形成的影响,......
磁性Fe3Si薄膜具有高饱和磁化强度、高磁导率、高自旋极化率等优越性,在巨磁阻方面和自旋电子器件中有着广泛应用前景。本文介绍了......
实验使用磁控溅射和真空退火系统制备Fe3Si/MgO/Si多层膜结构。通过控制溅射时间来控制绝缘层MgO的厚度为20 nm、50 nm、100 nm、1......