HfO薄膜相关论文
本论文包括两方面的内容:高介电常数(高k)HfO薄膜的制备及其特性研究;Ge在高定向热解石墨(HOPG)上的生长机理研究.集成电路在按照......
采用直流磁控反应溅射法,分别在室温,200,300,400和500 ℃下制备了HfO2薄膜。利用X射线衍射(XRD)、椭圆偏振光谱(SE)和紫外可见光谱(UV-vis)......