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ICP增强的磁控溅射放电相关论文
甚高频磁控溅射放电等离子体特性的研究
磁控溅射是一种重要的薄膜沉积技术。在过去几十年中,磁控溅射技术得到快速发展,特别是非平衡磁控溅射技术的发展使得磁控溅射沉积薄......
学位
甚高频磁控溅射
ICP增强的磁控溅射放电
等离子体特性
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