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生产型GaN MOCVD(6片机)设备中的压力控制技术
反应室压力控制稳定是保证工艺重复性和陡峭界面生长的关键之一。分析了影响压力控制精度的主要因素,介绍了采用软件、硬件结合的方......
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GAN
MOCVD
压力控制
薄膜
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LED
多量子阱
GaN MOCVD: Pressure controlling: Film
Interface;
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