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Ni6H-SiC相关论文
氢氟酸刻蚀对Ni/6H-SiC接触性质的作用
采用浓度为10%的氢氟酸(HF)刻蚀6H-SiC单晶片,研究了HF刻蚀时间对Ni/6H-SiC接触性质的影响.经24h刻蚀的SiC基片在溅射Ni层后,其接......
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