研究了高能Ａｒ＾＋注入对Ｐ＾＋薄层特性的影响。结果表明，正面高能Ａｒ＾＋注入能在有源区下隐埋一层缺陷带，可有效地净化表面有源区。用高能Ａｒ＾＋／Ｂ＾＋注入制备出了......