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PECVD硅烷分解法相关论文
PECVD硅烷分解法制备硅层基本规律的研究
本论文工作利用PECVD设备,以Ar作为放电气体,采用SiH4分解法在不同基片和工艺条件下沉积了微晶硅薄膜。采用SEM、TEM、AFM、XRD、Ram......
学位
微晶硅薄膜
沉积速率
组织结构
结晶状态
薄膜稳定性
电学特性
光学特性
PECVD硅烷分解法
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