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PVCD法相关论文
PCVD法渗Si的研究
为解决硅含量超过3.5%的硅钢片无法轧制薄片的矛盾,探讨用等离子体化学气相沉积法(PVCD法),在(0.1-0.3)mm厚的普通硅钢片表面涂硅,然后进行短时间高温扩散,使......
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硅钢片
PVCD法
渗硅
电工材料
silicon steel sheet
PCVD method
infusing silicon
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