采用磁控溅射法,分别在AZ31和Mg-8Li镁合金基片上制备了TiSi/TiSiN/TiSi/TiSiN薄膜.借助X射线荧光光谱(XRF)、扫描电镜(SEM)、X射......

采用物理气相沉积(PVD)技术,在单面抛光的缺口拉伸试样上生长Ti和TiN薄膜,采用扫描电镜(SEM)观察膜面以0.05mm/min变形速度拉伸变......

文章综述的内容为：（１）物理汽相沉积（ＰＶＤ）薄膜的微结构；（２）ＰＶＣＤ薄膜的内应力；（３）膜的微结构和内应力的关系，着重介绍制备参数对结构、内应力和再会得之间的......

为确定以基于离子镀膜技术制备的物理气相沉积((Physical Vapor Deposition, PVD)薄膜传感器监测振动疲劳裂纹的可行性，开展了以PVD......