采用射频（R．F．）磁控溅射在陶瓷（Al2O3）衬底上制备出了纳米晶CdTe薄膜，常温下将薄膜样品浸泡到AgNO3水溶液后，在真空380℃下退火60min获得Ag......

由于薄膜沉积过程中缺乏氧气,溅射得到的是化学配比偏离WO3的氧化钨薄膜,本文详细研究了不同电压下,R.F磁控溅射生成的不同化学配......