用等离子体增强化学气相淀积（ＰＥＣＶＤ）制备了氢化非晶硅薄膜（ａ－Ｓｉ：Ｈ）并进行了退火实验，利用红外吸收光谱（ＩＲ）和金相显微镜研究了薄膜中的氢含量及退火前后......