双离子束相关论文
本论文采用双离子束溅射沉积技术制备了非晶的Si-SiO2薄膜,XPS的测试表明Si是以单原子或低价氧化物的形态存在于薄膜内;在波长为24......
本文扼要介绍了一台双离子束实验装置离子光学系统的计算机辅助设计。该设计用传输矩阵方法和TRANSPORT程序完成。
This article ......
利用双离子束沉积系统在P(100)型Si基上制备了不同Ta含量的Hf1-xTaxO薄膜.其中,Ta/[Hf+Ta]的原子百分比分别为15%、26%、33%、45%、......
为了解决由栅介质层过薄而引起的漏电流显著增加的难题,人们引入了一种具有高介电常数(高k)的材料来取代传统的SiO2。其中,铪基高k......
本论文采用双离子束溅射沉积技术制备了非晶的SiOx薄膜,XPS的测试表明Si是以单原子或低价氧化物的形态存在于薄膜内;在波长为240nm......
研制了一套用于双离子束注入器的杂质消除系统,该系统由两台速度选择器、1台单透镜和1台双孔选束光阑组成,可实现不同荷质比的两种......
采用双离子束溅射沉积法制备的掺杂硅基Si-SiO2和Al-Si-SiO2薄膜,实验中通过改变基片温度获得不同条件下的样品。测试发现,当基片......
研究了双离子束溅射制备铜钨薄膜时Ar+能量及低能辅助轰击对膜结构的影响.实验结果表明,以铜为衬底,铜靶Ar+能量在1~2keV、钨靶Ar+......
分析了双离子束溅射镀膜机的设备原理、功能层次,参照《GJB/Z57维修性分配与预计手册》中的相关要求,根据各部件的故障率和维修经......
离子束溅射沉积锆的同时以氧离子轰击形成Zr-O薄膜,经RBS及XPS分析表明薄膜由3部分组成:表面碳沾污层;Zr-O膜体;膜与基体的界面过渡层。......
在研制的双源离子注入机上,把钛离子和氮离子同时注入工业铝、45#钢、CCr12钢、GCr15钢。摩擦学实验表明,上面四种材料经钛离子和氮离子同时注入后......
本发明提供一种具有单离子束和双离子束以及多离子束溅射淀积,能产生单质、二组元、三组元、四组元成分,原位反应共溅射淀积纳米膜(含......
研制了一套用于双离子束注入器的杂质消除系统,该系统由两台速度选择器、1台单透镜和1台双孔选束光阑组成,可实现不同荷质比的两种......
【英国《国际核工程》网站2019年7月19日报道】克罗地亚德博斯科维奇研究所(RBI)已建成一座双离子束设施,可以组合来自不同加速器......
使用双离子束溅射法制得了铁氮薄膜 ,随着基片温度的变化 ,薄膜的成分是ε Fe2~ 3N、γ′ Fe4 N或是二相的混合物 ,薄膜的晶粒尺寸......