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多羟多胺络合剂相关论文
集成电路钴插塞弱碱性化学机械平坦化材料与机理研究
自进入10nm及以下技术节点,传统钨(W)插塞由于电阻率高已不能满足集成电路发展需求,可采用电阻率较低的钴(Co)材料(~6.64μΩ·cm)替代。......
学位
多羟多胺络合剂
腐蚀抑制剂
电化学
化学机械平坦化
钴插塞
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