【摘 要】
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本文利用射频磁控溅射方法，设计并制备了不同单层厚度(25～250nm)的Al/Si3N4纳米多层膜；利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对多层膜的表面形貌和微观结构进行了初始
【机 构】
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辽宁工程技术大学,材料科学与工程学院,阜新123000;ChairMaterialsforElectronics,InstituteofMaterialsEngineering,IlmenauUniv
【出 处】
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第十一届全国固态相变、凝固及应用学术会议
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本文利用射频磁控溅射方法，设计并制备了不同单层厚度(25～250nm)的Al/Si3N4纳米多层膜；利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对多层膜的表面形貌和微观结构进行了初始表征。对Al/Si3N4纳米多层膜进行了热循环实验(25～400℃C)，结果表明，在热应力作用下，多层膜表面形成"丘起"状损伤；随着单层厚度的降低，表面损伤形貌发生改变。利用聚焦离子束技术(FIB)对多层膜表面"丘起"损伤进行了截面观察；讨论了多层膜界面对表面损伤的影响并且初步探索了多层膜损伤行为尺寸效应的物理本质。
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