【摘 要】
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由于高NA与偏振光照明的应用,光刻机投影物镜的偏振像差对光刻成像质量的影响越来越显著;引起图像位置偏移、最佳焦面偏移和图形CD误差,导致成像质量的恶化和工艺窗口的减小.因此,需要准确测量和控制投影物镜的偏振像差.分析偏振像差对成像质量的影响是对偏振像差进行测量和控制的前提,具有重要的研究意义.课题组前期提出一种基于解析方程的偏振像差分析方法,成功推导并验证了泡利系数a0、a1与光刻成像质量劣化之间
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所,上海市嘉定区清河路390号, 201800
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由于高NA与偏振光照明的应用,光刻机投影物镜的偏振像差对光刻成像质量的影响越来越显著;引起图像位置偏移、最佳焦面偏移和图形CD误差,导致成像质量的恶化和工艺窗口的减小.因此,需要准确测量和控制投影物镜的偏振像差.分析偏振像差对成像质量的影响是对偏振像差进行测量和控制的前提,具有重要的研究意义.课题组前期提出一种基于解析方程的偏振像差分析方法,成功推导并验证了泡利系数a0、a1与光刻成像质量劣化之间的关系.
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